精度0.6纳米！国产首台电子束光刻机面世
据报道，近日全国首台国产商业化电子束光刻机在杭州正式亮相，这台设备由浙江大学余杭量子研究院自主研发，型号为“羲之”，已完成研发并进入应用测试阶段。“羲之”是一款新一代100kV电子束光刻机，外观酷似大型钢柜，专攻量子芯片、新型半导体研发的核心环节。可通过高能电子束在硅基上“手写”电路，精度可达0.6纳米、线宽仅8纳米，精度比肩国际主流设备，并且无需掩模版，可多次修改设计。据介绍，与传统光刻机相比，电子束光刻机在原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势。团队负责人表示：“芯片研发初期会设计很多版型、图案，常常需要一条线一条线进行修改，电子束光刻机精度高、‘书写’便捷，极大提升了芯片研发初期反复调试的效率。”此前先进电子束光刻机类设备受国际出口管制，国内顶尖科研机构和企业长期无法采购，而“羲之”的落地彻底打破了这一困局，目前已与国内企业及多家科研机构展开接洽。不知被“比肩”的 国际主流设备的是谁？被“比肩”的精度是多少？ 自主特色创新有哪些
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