传英特尔增购ASML High-NA EUV设备
据TechNews 科技新报报道，英特尔近期将向荷兰ASML采购的High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）设备数量由一台增加至两台，凸显其对14A制程的高度重视。随着半导体制程向更先进节点迈进，传统EUV光刻技术逐渐接近物理极限，High-NA EUV被视为打破瓶颈的关键设备。 ASML的High-NA EUV设备产能有限，每年约生产五至六台，且单台价格约3.7至3.8亿美元（约合26至27亿元人民币），仅少数财力雄厚的晶片厂如台积电、三星、SK海力士和英特尔能够承担。英特尔积极扩大投资，部分得益于近期外部注资支援。例如，英特尔于2025年获得辉达注入50亿美元资金，以及软银投资20亿美元，这些资金有效增强了英特尔的现金流和资本支出能力，使其能抢先包下ASML High-NA EUV初期产能。英特尔的战略重点放在14A制程（1.4奈米节点）上，计划利用High-NA EUV技术来提升制程精度与良率，吸引更多代工客户。然而，公司高层已明确表示，若14A制程未能成功获取市场认可，英特尔将被迫退出高端制程节点竞争，这将对其一站式代工服务（IFS, Intel Foundry Services）业务造成重大冲击。目前虽已增购第二台High-NA EUV设备，但该设备能否彻底突破制程瓶颈，仍存在不确定因素。包括良率管理、设计工具成熟度及完整供应链协同能力，都将决定英特尔是否能成功翻身。英特尔高阶工程师Steve Carson透露，他们已通过首批两台High-NA EUV设备每季度生产约3万片晶圆，其中硅晶圆可制造数千颗晶片，显示设备稳定性已有明显提升。
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