请问三极管电流IB的形成原因

只看该作者 · 2007-2-26 02:58

有两个问题请教大家:

1.书上说是由于基区空穴与电子复合,由IB把空穴补充回来,请问为什么基区空穴被复合掉就会自动补充回来呢?请问原理是什么?

2.请问二极管导通情况是由于复合作用使外电路补充电流还是由于扩散作用引起的?

只看该作者 · 2007-2-26 10:31

只看该作者 · 2007-2-27 20:25

自己顶

只看该作者 · 2007-2-28 06:39

1.我想应该是电中性原理
对于正常工作的三极管少数载流子在EB结附近的浓度比较高，在BC结附近接近0，这样就产生了浓度梯度，也就是集电极电流的产生原因(类似化学势的说),
同时由于基区想保持电中性(这里所说的电中性应该是在无工作情况下基区掺杂状况保持不变),这样基区将补充一定的空穴将少数载流子复合掉，所以如果EB附近的少数载流子浓度是n0p的话，那么基极的电流就是
    n0p*A*Wb/(2*t)
  A是三极管的面积，Wb是基区宽度(发射极与集电极之间的基区宽度),t是少数载流子穿过基区的时间。
由于少数载流子不停的扩散进入基区，所以会形成稳态而达到持续的电流。
  另外基区也会由于在EB附近有较高的浓度而向发射极扩散，也会形成基极电流的一部分，这就是在Ic很小情况下beta变小的原因，因为这部分基极电流基本保持不变。

2.不好回答，只能说是扩散引起了电流，复合导致了持续性的电流。

只看该作者 · 2007-3-1 18:38

根据你的分析,基区形成电流是因为要保持电中性,这点我理解

但为什么UBE却没有吸引没复合那部分电子呢?

只看该作者 · 2007-3-2 15:59

按照4楼的计算，基区所有的少数载流子都被复合了，那岂不是只有基极电流，没有集电极电流了。

只看该作者 · 2007-3-2 17:23

对啊,所以基区要做得足够薄,在没复合光时就已到达集电区,而且基区多子空穴数量少,因此不会出现你说那种情况

请问三极管电流IB的形成原因

相关下载

相关帖子

可以分析电子的流向

自己顶

电中性原理

TO sheepyang:

？？

TO wxf1215 :

技术高手奖章

以坛为家

晶莹之水滴

无冕之王奖章

甘甜之泉水

技术新星奖章