Mentor Graphics Calibre 2007.1_25 Linux 寄生參數萃取软件
Calibre?是业界唯一完整的实体验証与次波长解决方案，Calibre实体验証套装工具，包括Calibre DRC与Calibre LVS在內，可確保积体电路实体设计遵守代工製造规格要求，元件功能也符合原设计规格。针对次波长设计，Calibre则利用阶层式验証引擎提供一组套装工具，可以新增或建立模型，並且验証四种主要的解析度强化技术，分別是光学製程修正（OPC）、相位移光罩（PSM）、Scattering Bar和偏轴照明（OAI）技术。身为实体验証工具市场领导者，Calibre已成为许多厂商採用標准，包括全球最大的整合元件製造商、晶圆代工厂商以及深次微米元件库供应商。
Calibre产品家族介绍：
Calibre DRC & LVS
Calibre产品家族已迅速成为深次微米实体验证与次波长可製造性的业界標准工具，並为设计规则检查（DRC）、佈局与线路对比检查（LVS）、晶片与佈局对比检查、以及电气规则检查（ERC）等应用带来快速可靠的解决方案。设计复度正不断增加，电路元件的体积也越来越小，Calibre工具的发展已將这两项趋势列入考虑，並採用特殊架构以满足未来设计挑战。
Calibre內建咚阈蕵O高的阶层式佈局处理引擎，可以在执行设计规则检查、佈局与线路对比检查、电气规则检查和晶片与佈局对比检查时，提供前所未有的咚闼俣龋涣硗膺€有光罩可製造性与强健性的分析与强化工具，它们会以光学製程修正和相位移光罩的形式与Calibre完全整合。由於核心引擎的功能极为强大，因此將来还会持续增加更多新功能，以充份利用它的开放式架构。
与设计方式无关（Design Style Independence）的重要性
Calibre的所有组態设定都是以標准验证规则格式（Standard Verification Rules Format）为基础，它的设计让工作规则编写人员（rule deck authors）觉得很熟悉，並足以执行最复杂的深次微米检查。由於Calibre与设计方式无关，同一组规则可用於展平式（flat）或阶层式方法，也可用於不同的设计方式 - 不必针对特定设计进行调整，也不必使用任何辅助档案；相反的，Calibre会使用一套独特、已通过实际考验的演算法，包括Selective Promotion?、Hierarchical Injection?和Bin Injection?，它们能自动分析和利用设计阶层架构的重复部份，减少验证周期时间，不必使用者提供设计的阶层架构资讯。
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产品主要优点：
? 最佳工作效能：Calibre採用高效率处理引擎，可在数小时內提供扁平式与阶层式演算法的咚憬Y果，不像以前需要数天时间；另外还有多绪执行的功能选项，可大幅增加验证速度。
? 庞大处理容量：Calibre对於阶层式设计的处理容量几乎毫无限制，2GB或更多的**体存取能力可以协助客户发展大型设计专案；它也支援64位元作业系统，並提供4GB以上定址能力，多绪执行选项可以大幅提升工作效能，而且每颗处理器只须增加1-2%**体。
? 与设计方式无关：只有Calibre验证工具才能针对所有设计方式，提供操作简单的全自动阶层分析与最佳化能力，不但让执行过程更有效率，也不会影响工作效能。
? 最佳化的可製造性处理能力：所有设计规则检查工具中，只有Calibre完全整合晶片与佈局对比检查，可自动找出微影程序问题；它提供先进的天线检查能力、自动的平坦化填充功能（planarization fill）和以规则为基础的光学製程修正，为使用者带来一套完整的可製造性处理流程。
? 使用简单：Calibre产品线提供一套可立即使用的解决方案，能自动转换旧规则档案，並在结果显示环境內（Calibre RVE?）以图形操作方式轻易完成除错工作，故能整合至任何设计环境。简单又强健可靠的规则档案语法让程式设计更容易。
Calibre DESIGNrev
Calibre DESIGNrev：快速的全晶片显示和设计迭代（Design Iteration）
从第一次功能整合开始，一直到成功tape-out为止，对於必须整合与组合完整晶片的工程师来说，这是一个漫长艰辛的过程。隨著设计的大小和复杂度不断增加，传统佈局编辑工具已缺少足够处理容量，无法快速有效的显示、修改和储存佈局资料，即便是对整颗晶片的GDSII档案执行一些简单工作，例如开启、显示、修改和储存，就可能需要数个小时才能完成，也使得tape-out时程被白白耽误。
Calibre DESIGNrev可以迅速载入、显示和储存大型GDSII档案，加快全晶片设计的完成和tape-out时间；此外，Calibre DESIGNrev还允许工程师迅速缩放局部设计、寻找和修復实体验证错误、並且很方便的重新执行Calibre DRC和Calibre LVS。
产品主要优点
?只须数分钟即可开启数个GB大小的GDSII档案：这项能力可以大幅缩短Tape-Out时间。
?强健可靠的修改能力：剪下、复製、贴上、刪除、移动和更多功能，復原及重复执行的次数也不受限制，使用者还可以存取本地GDSII资料库內的资料，包括多边形、线段（edge）、文字、cells、instances、阵列和更多。
?快速高效率的迭代迴圈：快速的GDSII档案载入、显示、错误辨认、错误更正和重新执行其它工具，使用者可以很方便的重新验证整个设计，也可以只验证资料被修改的部份。
Calibre DESIGNrev协助Tape-Out准时完成
在全晶片除错过程中，工程师必须重复执行实体验证、错误辨认、错误更正和重新验证等步骤，这不但需要很长的时间，管理也非常困难。特別是晶片成长速度极快，已超过佈局编辑工具的能力范围，例如若使用早期的工具，开启一个2GB档案最长可能就要八个小时；此外，大型资料库也会拖慢標准显示功能（画面展开、缩放?等等），储存档案时可能又要多等待数个小时。
其它替代方法也未能解决这些问题，例如放置与绕线工具就缺乏强大的修改能力。资料库管理也很困难，专属资料库的编辑结果不一定为最终GDSII档案所截取，GDSII瀏灠工具虽能加快显示速度，却不允许修改或更正。
Calibre DESIGNrev是大型档案除错的最佳解决方案，可確保Tape-Out准时完成。
Calibre DESIGNrev採用高效能Calibre多边形引擎
Calibre DESIGNrev是Calibre家族一员，提供Calibre使用者熟悉的速度和容量，可在数分钟內开启和存取数个GB大小的档案，佔用的RAM**体空间也只有几分之一。
Calibre DESIGNrev 重要特色
快速弹性的显示功能
Calibre DESIGNrev允许使用者替每一层命名、指定每一层的顏色和填色方式、隱藏某些数值（cull values）、为常用视窗（view）设定书签（bookmark）和更多功能。
GDSII修改更简单
不同於GDSII资料显示工具，Calibre DESIGNrev允许使用者透过標准编辑功能，例如剪下、复製、贴上、新增、刪除、移动和中断，操作本地GDSII资料库中的物件，包括cells、instances、多边形、线段和文字。
更容易发现错误和重新执行实体验证
Calibre DESIGNrev也能和Calibre RVE紧密整合，提供更快的错误辨认以及资讯交互显示（cross-probing）功能；和Calibre Interactive搭配使用时，Calibre DESIGNrev还允许使用者启动执行Calibre DRC和Calibre LVS两套工具，使用者可以验证和再验证整个设计，也可以只验证被修改的部份设计。
支援可客製设定的tcl/tk巨集
Calibre DESIGNrev支援开放式標准的tcl/tk巨集语言，使用者可根据自己需求，客製设定这套工具；一个已事先定义的巨集函式库即利用这项功能，此巨集函式库会呼叫常用的Calibre DRC功能。
作业系统支援
在所有其它Calibre产品也支援的平台上，Calibre DESIGNrev可提供32和64位元支援，以下是建议的系统组態：HP-UX 11.0, 11i；Linux RedHat 7.0, 7.2；Solaris 7, 8。
具体说明可以咨询 |
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