光耦隔离元件应该加在哪里

2万 · 2011-4-14 19:41

对于单片机扩展片外AD和DA芯片来说，光耦隔离元件应该加在哪里？

2万 · 2011-4-14 19:57

加在AD之前加线性光耦，AD器件容易受到干扰

2万 · 2011-4-14 20:04

加在AD之后单片机前加光耦吧，防止数字地和模拟地耦合造成单片机内窜入干扰

2万 · 2011-4-14 20:14

到底是哪里呢？还有，如果采用数字地和模拟地分开，最后再通过一点相连。在Protel原理图中和最后的PCB中怎么样操作呢？

2万 · 2011-4-14 20:24

还有，覆铜时会不会有什么特别操作的地方？

2万 · 2011-4-14 20:31

一般加在ADC后。因为线性光耦的成本相对高，性能不是很好！采用隔离运放价格也很高。

2万 · 2011-4-14 21:10

同意楼上的观点. 不过, 楼主要的是从干扰的角度看合理性.
虽然两种隔离, 各有优缺点. 我推荐在数字地和模拟地之间(单片机前)加隔离

2万 · 2011-4-14 21:12

为什么？

2万 · 2011-4-14 21:34

不仅是成本的原因. 另外, 虽然 AD 器件容易受干扰, 但是, 只要电源,地, 信号藕合退藕处理好,
信号传输和降噪的处理合理,加上合适的运放等, 是能够很好地得到 AD 的采样精度的.

2万 · 2011-4-14 21:44

嗯，另外一个方案, 除了上面所述同样也需要处理好外, 其精度还依赖于关键器件:线性光耦或隔离运放.

2万 · 2011-4-14 21:45

原来图没有区别. pcb 时, 注意覆铜时用更多段线段把两个地分开来,

2万 · 2011-4-14 21:55

呵呵，只让你感觉可以相连的地方连接起来.

2万 · 2011-4-14 21:57

嗯，了解了，多谢大侠们

只看该作者 · 2011-4-15 09:29

还没用过光耦的路过:)