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请教:半导体工艺的比较

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 楼主| wizard20 发表于 2007-4-29 15:50 | 显示全部楼层 |阅读模式
半导体, 半导体工艺
请高手跟小弟讲讲各种半导体工艺的特点,优缺点,及它们之间的比较<br />先谢谢拉!
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guanyaoshu 发表于 2007-4-29 16:01 | 显示全部楼层

不知你指哪一道工艺

半导体工艺包括好多道工艺的呀。不知道你指的是哪一道呢。<br />从拉单晶，切片，光刻，氧化，蒸铝，封闭，多的是。。。。每一道工述都有好多不同的工艺。要详细了解就要拿本书来慢慢研究了，呵呵。好痛苦的说。
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chunyang 发表于 2007-4-29 17:17 | 显示全部楼层

你的这个问题也太宽泛了，而且没有工艺范畴的限定，如何

  
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 楼主| wizard20 发表于 2007-4-30 09:30 | 显示全部楼层

谢谢！

小弟先谢谢大家关心!<br />我想知道双极工艺、MOS工艺（主要是CMOS）、BiCMOS工艺之间的优缺点比较！<br />具体的工序就不用讲了。小弟自己会查的。
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chunyang 发表于 2007-4-30 12:52 | 显示全部楼层

大致说说

双极工艺结构简单、成本低、速度快，但功耗大；MOS工艺功耗低、成本低，但速度、噪声等指标稍逊；Bimos工艺则是前两种工艺折中的结果，兼顾了二者的优点但成本仍稍高。
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