污染原因
对于半导体厂家而言，在去光阻工序中常会使用的去光阻液，虽绝有些工厂车间目前都已采用冷凝吸收器进行去光阻工序排气前的预处理净化并回收，回收效率约在90%以上，但对于其所衍生的低浓度(<5ppm)有机恶臭污染物，碍于既有处理等级限制，无法将所有问题一并解决，也长期造成从业者许多困扰，这些含硫化合物气体不但是造成高科技业或相关园区废水厂空气污染臭味投诉的主因，同时也是使被污染的空气导引进入如半导体晶圆制造厂及TFT-LCD。
现有问题
因所处理的废水含高科技业去光阻机台的DMSO废水，因此于废水处理过程DMSO还原而产生DMS等还原性臭味，以DMS而言，其嗅觉阈值很低(<0.011-0.063ppmv)，大气中只要含微量(低浓度)，就会产生明显的恶臭气味，若以现有冷凝吸收设备，无法**解决所衍生的臭味问题，车间无法**解决废水厂有机废气臭味的问题。
建议技术
本案建议采用uv光解除臭设备，其系利用高能高臭氧UV紫外线光束照射，裂解恶臭气体，以去除及净化臭味物质。该设备购置运行成本低，适应性强，效率高，尤其适用于半导体厂、塑料厂、炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站等排放臭味气体的处理，可以解决吸附技术无法解决的臭味问题。
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