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非金属薄膜膜厚测量系统

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aaa2742|  楼主 | 2019-3-18 20:24 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
价格:0 元
非金属薄膜膜厚测量系统说明
个人摸索参考国外仪器Filmetrics F50所做,想转让该样机或技术。
简介
该样机利用白光光谱干涉原理,可准确测量在基底上的透明或半透明薄膜厚度。根据反射率n、消光系数k随着薄膜厚度的变化规律,开发了具有完全自主知识产权的最优化算法,实现了膜厚高精度测量。同时,该系统配备了高精度三维移动平台,可实现薄膜表面膜厚的Map测量。
样机实物图:

参数及功能
测量精度:0.1nm
测量范围:50nm-50um
重复性误差:<0.4%
单点测量时间:<2s
三维移动测量平台,可进行标准的Si上镀SiO2的晶圆2346812寸的测量
现可测材料Si基底上镀SiO2(其他参数可按需求添加)
测量功能以及准确度可媲美Filmetrics公司的F50产品。
软件测量:
优势
非接触无损测量,无污染
测量重复性好,操作简单,全自动坐标测量
系统内部含有宽波段光源,微型光谱仪检测,适用范围广
超高性价比,模块化结构设计,开放的扩展接口,可满足客户个性化定制
完全自主知识产权的核心检测算法
应用
半导体晶圆测量
触摸屏
其他镀膜行业
合作方式
可提供样机测试
可转让样机或是全部技术,包含软硬件、算法以及全部技术要点

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