2020年03月24日 讯 - 随着制程技术的不断提升，苹果A14、华为麒麟1020、AMD Zen 4都要使用台积电的 5nm 工艺，这个工艺台积电已在本月开始5nm工艺的试产，第二季度内投入规模量产。
不过，目前来说，5nm工艺的具体指标还未公开，只知道会大规模集成EUV极紫外光刻技术，而且在一篇论文中也披露了一张晶体管结构侧视图。
最近，WikiChips分析了台积电 5nm 工艺后，得出结论栅极间距为 48nm ，金属间距是 30nm ，鳍片间距 25-26nm ，单元高度约 180nm，照此计算，台积电 5nm 的晶体管密度将是每平方毫米 1.713 亿个。
相比初代 7nm 的每平方毫米 9120 万个，这一数字增加了高达88％！而官方宣传的数字是84％。
大家都知道摩尔定律已经失效了，虽然工艺制程数字一直被业界诟病，但从本次推出产品来看，10nm 工艺的晶体管密度为每平方毫米5251万个，5nm是它的近3.3倍，这个数字的确非常惊人！相信使用新技术的苹果A14、华为麒麟1020、AMD Zen 4的性能也非常值得期待。
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