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补给水系统采用全膜法技术（ UF+RO+EDI ），现运行中发现电除盐出水异常，硅含量偏高，在线表计硅含量已到 8.5 μg/L，并且运行中逐渐上升，高峰值达到 9.9 μg/L，电导 0.066 μs/cm。进行人工取样化验，结果与在线表计一致。
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故障原因分析：
（1）对RO 单支膜元件出水电导进行分析：从单支膜壳电导率可以可看出没有明显异常膜壳。说明膜元件未出现“O”形圈泄漏、望远镜现象、膜表面磨损、产水背压、泄漏等现象。
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（2）通过对反渗透膜进行清洗，发现清洗液呈绿色。
初步判断膜元件存在铁铝污染，应该属于膜降解及氧化问题。长期清洗及清洗时 PH、温度控制不合理，导致了膜元件降解。
处理方法及防护措施
（1）更换被氧化的反渗透膜组件：由于反渗透膜氧化是一个不可逆的过程，建议更换两套反渗透一级一段模块。
（2）电厂采用亚硫酸氢钠还原来水中的余氯，但亚硫酸氢钠溶液不稳定，易被空气氧化而失效，建议对亚硫酸氢钠溶液每天配一次药剂，并保持加药箱的清洁。
（3）降低清洗强度：一方面运行上减少清洗次数；另一方面在清洗时要严格控制好清洗 PH 及温度。
（4）定期对反渗透进行非氧化性杀菌清洗，除去因微生物、有机物污染造成一级一段压差升高的原因。
（5）控制反应沉淀池出水水质：微调反应沉淀池聚合铝加药量，减少其后沉淀进入反渗透系统；控制反应沉淀池出水余氯在 0.1～0.2mg/L，保证杀菌有效且不过量。
（6）容器管道清洗：每年对补给水系统各水池、水箱、管道进行清洗，除去系统中的微生物及金属腐蚀物。
（7）对过滤介质的定期更换：浅砂过滤器滤料的定期更换和自清洗过滤器的定期保养。
（8）增加污泥指数（SDI）在线监测系统：因人工监测的误差，建议增加在线 SDI 监测系统。自动、连续地监测 UF 产水和 RO 进水的污染指数，能够快速、准确地反映补给水预处理系统的效果。
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