华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4时-8时的全自动系列湿法处理设备。 其中SPM自动清洗系统设备主要用于LED芯片制造过程中硅片表面有机颗粒和部分金属颗粒污染的自动清洗工艺。 | | | | | | | 主要功能:通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一-个用户要求的效果 可处理晶圆材料:硅砷化镓磷化铟氮化镓碳化硅铌酸锂钽酸锂等 被清洗硅片尺寸:2-8寸(25片/蓝) 设备形式:室内放置型 操作形式:自动. |
SPM腐蚀清洗机设备
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