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信号完整性对EDA工具的挑战

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forgot|  楼主 | 2023-6-29 10:43 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
自从1958年研制成功第一块集成电路以来，经过40多年，集成电路的特征尺寸先后从最初的10μm缩小到5μm、1μm、0.5μm，1997前后进入深亚微米阶段（DSM），并向超深亚微米（VDSM）和纳米级推进。目前，DSM工艺和VDSM工艺已经成为当前主流生产技术，然而飞速发展的工艺技术给我们带来巨大利益的同时，也使IC设计的复杂度日益增加，IC设计正面临着信号完整性问题这一前所未有的挑战，与此相关，如何有效地分析信号完整性成为EDA工具的瓶颈。

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