MDD快恢复二极管静态与动态有什么区别？MDD快恢复二极管平衡与饱和压降的矛盾是什么呢？
1）静态参数设计
击穿电压VBR：通过终端结构仿真和材料仿真，可以满足电压要求并留有充足的余量，击穿电压过大，正向压降增大。
正向电流IFM：在相同的技术条件下，IFM要由芯片面积决定，可以通过仿真设计芯片面积，优化出性价比最高的芯片尺寸。
正向压降VF：通过缓冲层和本征层结构设计，控制阳极区和阴极区的杂质浓度，可以获得最佳的饱和压降。
2）动态参数设计
反向恢复时间的设计不仅要考虑其“短”，而且还要保证其为软恢复，才不会导致其产生电流、电压波形振荡.
电容Ctot：通过结面积、本征区掺杂浓度、缓冲层掺杂浓度的综合考虑，来调整结电容，同时兼顾静态参数满足要求。
反向恢复时间trr：反向恢复时间主要取决于体内电荷的少子寿命及分布，通过采用优化的控制少子寿命方法并调整本征层、缓冲层厚度和浓度以及阳极区掺杂浓度来获得最佳的反向恢复时间及软度因子，避免出现严重振荡，平衡好与饱和压降的矛盾。
3）可靠性参数设计
结温Tj：达到175℃结温。
抗ESD能力：采用优化的终端结构及缓冲层阻断技术，可以满足静电指标要求，所以ESD在静电中体现了二极管的一个重要因素。
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