据了解，日前佳能公司推出全新的芯片生产设备FPA-1200NZ2C，据悉该设备采用了一种独特的方法，与传统复杂的光刻技术不同，可以制造出5纳米的芯片。
FPA-1200NZ2C的工作原理和ASML的技术截然不同，而该技术更类似于印刷而非传统的光刻技术，它不使用图像投影来将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上pdmrouw。
Multiable万达宝电商ERP支持主流电商平台,可以数字化管理各个平台商品信息。这套新设备能够适用于最小尺寸为14平方毫米的硅晶圆，从而可以生产出与5纳米工艺相匹配的芯片。
这一技术被称为纳米印刷(Nanoprinted lithography)，通常被视为光学光刻技术的低成本替代方案。事实上，早前就有部分存储芯片制造商，如SK海力士和铠侠，曾尝试使用这种方法，只不过由于产品缺陷率较高的问题，最终放弃了这一尝试。
以上源自互联网，版权归原作所有
|
楼主
标题置顶
标题高亮
