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测试EFT时可控硅误触发

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本帖最后由 freedomwzy 于 2013-5-3 14:29 编辑

各位高手,小弟最近负责的一个项目,是用单片机控制可控硅导通的,负载是电机,180W左右。   
电机是正转工几秒,停几秒,反转几秒,再停几秒,这样重复运行的。
现在遇到的问题是:在正常情况下运行是没问题的,但是在测试EFT4KV时,电机先是堵转,接着两个可控硅都被击穿了。
我觉得可能是一路可控硅被误触发,导致正反转两路同时导通,把可控硅击穿。
从网上找了几种可控硅误触发的原因:
1.电压上升率dv/dt过高,在MT1和MT2间接RC吸收电路,R为100ohm,C为473,但是还是会被击穿;
2.电子噪声超过Vgt,造成的误触发

不知道该如何分析是什么情况造成的击穿,有何对策呢?

1.jpg (45.28 KB )

电机驱动原理图

电机驱动原理图

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沙发
chunyang| | 2013-5-4 00:41 | 只看该作者
是误触发而非电压上升斜率过高所致,而在楼主电路中,晶体管的瞬态导通引发的误触发比直接触发可控硅的可能性更大,要在晶体管基极回路里加吸收电路。

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参与人数 1威望 +1 收起 理由
freedomwzy + 1 很给力!
板凳
freedomwzy|  楼主 | 2013-5-6 11:13 | 只看该作者
非常感谢chunyang的指导,我在三级管的基极和地间接了一个101的电容,在测试是不会出现可控硅被击穿的现象,看来是有晶体管瞬态导通造成的可控硅误触发;
还想请教一个问题,可控硅T1和T2两端的RC吸收电阻的参数该如何选择呢?能否举个例子呢?

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地板
power_qiu| | 2013-9-25 14:24 | 只看该作者
可控硅应用与技术讨论群:315490218

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chungcountryman| | 2014-5-10 11:12 | 只看该作者
要在晶体管基极回路里加吸收电路。~mark下

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