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<br /><br />公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业合资成立。公司于2008年3月成立，投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等的研发、技术推广和生产销售。<br />主要产品有：<br />（1）半导体腐蚀清洗设备<br />① 适用：2～8英寸硅片<br />② 操作：全自动/半自动/手动<br />③ 处理方式：腐蚀、喷淋、清洗、干燥<br />④ 设备单元：腐蚀槽、快排清洗槽、溢流槽<br />⑤ 清洗液：H2SO4、HF、HNO3、SC-1、SC-2、NaOH、 KOH、DIW<br />⑥ 设备主体：一般为不锈钢骨架外包PP焊接构成<br />⑦ 槽体设计：一般清洗槽采用劳士领NPP板，酸腐蚀槽PVDF板。干燥槽为SUS316.<br />⑧ 安全门：采用透明PVC板（推拉式或折叠式设计）<br />⑨ 附加功能：N2鼓泡、抛动、超声等<br />（2）太阳能光伏腐蚀清洗设备<br />①适用： 2～8英寸（硅片）<br /> 5～150mm（硅块）<br /> φ15×2800mm（硅芯）<br /> φ150×2800mm（硅棒）<br />② 操作：全自动/半自动/手动<br />③ 设备单元：腐蚀槽、快排清洗槽、溢流槽、<br />超声清洗槽、N2切水槽、干燥槽<br />④ 清洗液： HF、HNO3、NaOH 、DIW<br />⑤ 设备主体：一般为不锈钢骨架外包PP焊接构成<br />⑥槽体设计：一般清洗槽采用劳士领NPP板，酸腐蚀槽PVDF板。干燥槽为SUS316.<br />⑦安全门：采用透明PVC板（推拉式或折叠式设计）<br />⑧附加功能：N2鼓泡、抛动、超声等<br />（3）液晶湿制程设备<br />①适用：LCD、OLED、PDP面板<br />②面板尺寸：Max 1900mm X 2500mm<br />③传送：In-Line Type<br />④应用：ITO PR Developer，ITO Etcher，Mask Cleaner，ITO Stripper。<br />⑤清洗方式：清洗液、滚刷、盘刷、高压水洗、 喷淋清洗、风刀切水<br />⑥设备主体：一般为不锈钢骨架外包PP焊接构成<br />若有这方面产品需求欢迎联系我们。<br />ADS:苏州工业园区独墅湖高教区若水路398号<br />TEL:0512-62872209<br />FAX:0512-62872543<br />URL:www.hlcas.com<br />E-mail：julyvc@yeah.net <br /><br /> 相关链接:<a href='https://bbs.21ic.com/upfiles/img/20092/2009227151939416.pdf'>https://bbs.21ic.com/upfiles/img/20092/2009227151939416.pdf</a> |
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