第一部分:关于IGBT 器件和可控硅器件的对比
1. IGBT 和可控硅内部原理对比
IGBT 是栅极为MOS 构造,同时兼具MOS 管高速、输入阻抗高、易驱动与GTR 的通态压降小、载流密度大、耐压高、热稳定性好、双极晶体管通态压降低的优点于一身。,简化结构如上图。工作时由于IGBT 的电导调制特性,RN 减小很多使得IGBT 的通态电阻很低,大约为VMOS 的十分之一,使得IGBT 的功耗很低。从简化等效电路上看,IGBT相当于是用双极性晶体管与MOSFET 组成的达林顿结构,相当于一个MOSFET 驱动的晶体管。因此,IGBT 的通态压降很低,特别是在大电流的情况下更为明显。而由于IGBT的栅极为MOS 构造,因此IGBT 的开关损耗与可控硅相比非常低。可控硅为换流关断型,它的门极只能使管子开通,不能使其关断。管子开通后,门极就失去了控制能力,只能依靠外部换流使流过管子的电流下降为0,或者使管子两端的
电压反向而关断。因此可控硅的开关损耗非常高,在较高的频率下使用效率很低。 |