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英特尔计划减少对ASML高NA EUV光刻机的依赖

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 楼主| hbzjt2011 发表于 2025-6-22 18:40 | 显示全部楼层 |阅读模式
英特尔, ASML, euv光刻机, 芯片制造, 芯片, 制造
英特尔高管表示，未来芯片制造将减少对ASML高NA EUV光刻机的依赖，转向提升刻蚀技术。随着GAAFET和CFET等三维晶体管结构的发展，芯片制造对光刻环节的需求将减弱，高NA光刻机在先进制程中的重要性可能下降。
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