关于增强型MOSFET:
MOSFET的详细说明涉及到较深层次理论(如半导体和固态物理)。几何模型层次的说明也不那么的简单,因此不宜在此详细阐述。具体可参看Adel S. Sedra / Kenneth C. Smith 的《微电子电路》。
增强型 MOSFET 的源漏极间有一个沟道,平时被耗尽层所占。如果在源棚极加一个电压Vgs < Vt(开启电压),此还不足以开启隧道。也就是 MOSFET 的沟道还是被耗尽层所占,不导通,此为截止(或截止区)。
如果 Vgs > Vt,沟道被开启(在衬底靠近棚极形成一个反型区)。此沟道(也有称隧道)可导电,但其形态不同电阻也不同。如果在 Vgs > Vt 的条件下加上 Vds < Vgs - Vt ,则沟道将变成源端宽漏端窄的梯形状。可根据理想几何状态列方程解得:
Id = k W / L [(Vgs - Vt) Vds - Vds^2 / 2]
其中 k 为与棚电容和制造工艺相关的常数,W 为沟道横向宽度,L为沟道长度。
MOSFET 的此状态区称为变阻区,即沟道电阻(近似认为是k W / L (Vgs - Vt) )随Vgs而变。明显可见,Id 和 Vds 是一个抛物线的关系。当 Vds = Vgs - Vt 时,达到顶值,进入到恒流状态。这就是 MOSFET 的饱和区(电流饱和的意思)。
MOSFET 在饱和区的 Id 和 Vgs 关系为:
Id = k W / L (Vgs - Vt)^2
饱和区的沟道在漏极端是处在夹断态,但可流过电流,而且接近恒定的(若Vgs 不变,且不考虑沟道长度调制效应)。可以看出,MOSFET 的输出特性线属的变阻和饱和分界点所组成的线也是一根抛物线:
Id = k W / L Vds^2
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