国产5nm光刻机工厂曝光！ASML连夜降价40%

上海微电子28nm光刻机已落地中芯国际，同时5nm研发获突破——双工件台精度达0.5nm，超ASML现有机型。网传张江实验室实拍图显示原型机组装中，预计2026年试产。受此影响，ASML中端光刻机对华降价40%，美国拟放宽DUV出口限制。半导体协会警告：国产化将重塑全球芯片供应链格局。