倾佳电子混合逆变器Hybrid Inverter拓扑架构演进及基于非对称碳化硅器件的T型三电平技术应用价值分析倾佳电子(Changer Tech)是一家专注于功率半导体和新能源汽车连接器的分销商。主要服务于中国工业电源、电力电子设备和新能源汽车产业链。倾佳电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,并提供包括IGBT、SiC MOSFET、GaN等功率半导体器件以及新能源汽车连接器。
倾佳电子杨茜致力于推动国产SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代进口IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块和IPM模块的必然趋势!
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管和大于650V的高压硅MOSFET的必然趋势!
倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!
1. 先进混合逆变器的战略需求1.1. 现代混合逆变器的定义与功能随着全球能源结构的转型,分布式能源系统,特别是光伏(PV)与储能系统(ESS)的融合,已成为电力电子领域的核心发展方向。在此背景下,混合逆变器(Hybrid Inverter)应运而生,其定义已超越传统的直流-交流(DC-AC)转换器,演变为一个集成的、智能化的能源管理中枢 。
混合逆变器的核心功能是整合了传统太阳能逆变器与电池储能逆变器的功能于一体 。它能够智能地调度与管理来自多个能源端口的功率流,包括光伏阵列、储能电池组、公共电网以及家庭或商业负载 。其关键技术特征在于其双向功率变换能力:它不仅能将光伏产生的直流电转换为交流电供负载使用或并入电网,还能将电网的交流电转换为直流电为电池充电,并在需要时将电池中存储的直流电再次逆变为交流电供负载使用 。
这种高度集成化的设计赋予了混合逆变器多种可编程的工作模式,以适应不同的应用场景与用户需求 :
并网模式 (Grid-Tied Mode): 功能类似于传统的并网逆变器,将光伏发电优先供给本地负载,余电上网 。
混合模式 (Hybrid Mode): 优先使用光伏发电,余电为电池充电,当光伏不足时由电池补电,从而最大化自发自用率,降低电费支出 。
备用电源/离网模式 (Backup/Off-Grid Mode): 在电网故障时,逆变器能自动切断与电网的连接,利用电池和光伏的电力为关键负载提供不间断供电(UPS),显著提升能源安全性和独立性 。
削峰填谷 (Peak Shaving): 在电价较低时段利用电网为电池充电,在电价高峰时段由电池放电供给负载,实现电能的时移套利 。
1.2. 技术发展趋势与市场驱动力
混合逆变器市场的快速发展主要由两大技术趋势驱动:储能系统的普及和宽禁带(WBG)半导体技术的应用。
首先,随着锂电池成本的下降和对能源独立性需求的增加,住宅及工商业储能系统(ESS)的部署日益广泛,这直接催生了对能够无缝集成光伏与储能的混合逆变器的强劲需求。
其次,功率半导体技术的革新,特别是从传统的硅基(Si)绝缘栅双极晶体管(IGBT)向以碳化硅(SiC)代表的宽禁带半导体的转型,正在深刻地重塑电力电子行业 。SiC器件凭借其优异的材料特性——如更高的击穿场强、更宽的禁带宽度和更高的热导率——展现出远超硅基器件的性能。它们具备极低的开关损耗和导通损耗,使得逆变器系统能够在更高的开关频率下运行 。更高的开关频率意味着可以采用尺寸更小、重量更轻的电感、电容等无源元件,从而显著提升逆变器的功率密度、降低系统成本和体积,这正是市场对现代逆变器的核心诉求 。这一技术趋势在全球顶级的电力电子会议,如APEC(应用电力电子会议)和ECCE(能源转换大会)上已成为焦点议题 。
  与此同时,为了进一步提升电能质量、减小并网电流谐波和降低滤波器尺寸,逆变器拓扑结构正从传统的两电平向更先进的多电平拓扑演进,其中三电平拓扑,特别是T型(T-NPC)和中点钳位型(NPC),因其在效率和性能上的平衡而备受关注 。混合逆变器的发展不再仅仅是功能的叠加,而是通过先进拓扑与前沿半导体技术的深度融合,实现系统性能的跃升。
2. 三电平逆变器拓扑的比较分析2.1. 从两电平到多电平的演进 传统的两电平逆变器结构简单,但其输出电压波形为方波,含有大量的谐波分量,导致总谐波失真(THD)较高。此外,其开关管在每次开关时承受完整的直流母线电压,产生较高的电压变化率($dv/dt$),这不仅会产生严重的电磁干扰(EMI),还需要体积庞大的输出滤波器来满足并网要求 。为了克服这些缺点,多电平拓扑应运而生。通过合成多个电压阶梯,多电平逆变器能够输出更接近正弦波的电压波形,从而显著降低THD和$dv/dt$,减小滤波器尺寸,并降低开关损耗 。
2.2. T型三电平拓扑结构(T-NPC) T型三电平逆变器是近年来备受关注的一种拓扑结构。其单相桥臂由四个功率开关器件(如MOSFET)构成。其中,外侧的两个开关(S1, S4)串联连接在直流母线正负极之间,而内侧的两个开关(S2, S3)背靠背串联,形成一个双向开关,连接桥臂中点与直流母线的中性点 。通过对这四个开关的协同控制,每个桥臂可以输出三个电压电平:$+V_{dc}/2$、0和$-V_{dc}/2$ 。
T型拓扑相较于传统的中点钳位型(NPC)拓扑,其主要优势在于导通损耗更低。在输出零电平时,电流仅流经一个内侧的功率开关,而在NPC拓扑中则需要流经一个开关和一个钳位二极管 。此外,T型拓扑无需钳位二极管,减少了元件数量,有助于提升功率密度和降低成本 。
2.3. T型与传统NPC拓扑的性能对比
为了深入理解T型拓扑的特性,以下将其与成熟的NPC拓扑进行多维度对比:
性能指标 T型逆变器 (T-NPC) 中点钳位型逆变器 (NPC)
整体效率更高,尤其在部分负载下,因导通损耗较低 。略低,因存在二极管导通损耗。但在极高开关频率下,其开关损耗优势可能显现 。
功率密度更高,因效率更高,散热需求更小 。较低,需要更强的散热管理 。
元件数量无需钳位二极管,元件数量较少 。需要额外的钳位二极管,元件总数更多 。
开关管电压应力外侧开关承受全直流母线电压 ($V_{dc}$),内侧开关承受半母线电压 ($V_{dc}/2$) 。所有主开关和钳位二极管均承受半母线电压 ($V_{dc}/2$) 。
技术成熟度较新,正被迅速采纳 。非常成熟,经过长期现场验证 。对比分析揭示了一个关键的技术权衡:T型拓扑以更低的导通损耗和更少的元件数量为优势,但其代价是外侧开关需要承受全母线电压。这一特性在使用传统硅基IGBT时构成了显著的挑战,因为高压IGBT的开关性能较差,开关损耗巨大,这在很大程度上抵消了T型拓扑的导通损耗优势,尤其是在追求高开关频率的应用中 。然而,宽禁带半导体技术的出现,特别是高性能高压SiC MOSFET的商业化,为T型拓扑带来了全新的发展机遇。1200V等级的SiC MOSFET相较于同电压等级的Si-IGBT,其开关损耗降低了一个数量级,使得T型拓扑外侧开关的高电压应力问题不再是效率的瓶颈。这使得设计者能够充分利用T型拓扑固有的低导通损耗优势,从而在宽泛的工作频率和负载范围内实现更高的系统效率。
3. 采用非对称SiC MOSFET配置优化T型拓扑3.1. 非对称设计的理论依据
对T型三电平拓扑内部工作状态的深入分析表明,不同位置的开关管承受的电气应力和其在系统总损耗中的贡献是不同的,这为非对称器件配置提供了理论基础。
电压应力分析: 如前所述,外侧开关(S1, S4)在关断状态下需要阻断整个直流母线电压(例如800V系统中的800V),而连接中性点的内侧开关(S2, S3)仅需阻断一半的母线电压(800V系统中的400V)。
损耗分布分析: 外侧开关以较高的开关频率(例如50-100 kHz)进行斩波,但其导通占空比较小,因此其损耗主要由开关损耗构成。相反,内侧开关虽然也参与换流,但其主要作用是在每个工频周期(50/60 Hz)的正负半周内长时间导通以形成零电平,因此其损耗主要由导通损耗决定 。
基于上述分析,一种高效的优化策略浮出水面:针对不同位置的损耗特性,选用不同规格的功率器件。具体而言,外侧开关应选用耐压高、开关速度快、开关损耗低的器件;而内侧开关则应选用耐压满足要求(大于$V_{dc}/2$)且导通电阻($R_{DS(on)}$)极低的器件 。
3.2. 非对称方案的优势采用这种非对称或称为“混合电压”的SiC MOSFET配置,可以带来显著的系统级优势:
性能最大化: 通过为每个开关位置匹配最优性能的器件,该方案能够同时将开关损耗和导通损耗降至最低。外侧高压SiC MOSFET的低开关损耗确保了系统在高频工作下的高效率,而内侧低压SiC MOSFET的超低导通电阻则最大程度地降低了系统的导通损耗。
成本优化: 在SiC MOSFET技术中,器件的导通电阻与其额定电压和芯片面积密切相关。在相同技术代别下,低电压等级的SiC MOSFET通常比高电压等级的器件拥有更低的单位面积导通电阻,且成本更低。因此,在满足电压裕量的前提下,为内侧开关选用成本更低的低压、低$R_{DS(on)}$器件,相较于全部使用昂贵的高压器件,能够有效降低系统总物料清单(BOM)成本。
这种设计理念体现了拓扑结构与器件特性的深度协同优化。T型拓扑本身为不同位置的器件创造了不同的工作条件,而SiC半导体技术恰好能够提供针对这些特定条件而优化的器件。这种“因材施教”的设计方法,将拓扑的潜力与器件的优势完美结合,实现了系统整体性能和成本效益的平衡,是比简单地用一种SiC器件替换所有Si器件更进一步的精细化设计。
4. 基本半导体G3 SiC MOSFET器件特性表征  本节将对用户指定的两款基本半导体(BASIC Semiconductor)第三代(G3)SiC MOSFET进行详细的电气特性分析,以评估其在非对称T型拓扑中的应用价值。
4.1. 高压外侧开关选择:B3M013C120Z (1200V)
B3M013C120Z是一款额定电压为1200V的SiC MOSFET,其高耐压特性使其成为800V~1000V直流母线系统中T型拓扑外侧开关的理想选择 。
静态特性: 在$25^{\circ}C$时,其典型导通电阻$R_{DS(on)}$为$13.5~m\Omega$(测试条件:$V_{GS}=18V, I_{D}=60A$)。在高温$175^{\circ}C$时,该值上升至$23~m\Omega$,表现出良好的温度稳定性。其最大连续漏极电流在$T_{C}=25^{\circ}C$时可达180A,具备强大的电流处理能力 。
动态特性: 作为承担高频开关任务的外侧开关,其动态性能至关重要。其总栅极电荷$Q_{G}$典型值为225 nC。在800V母线电压、60A电流的感性负载测试条件下(使用体二极管续流),$25^{\circ}C$时的典型开通损耗$E_{on}$为$1200~\mu J$,关断损耗$E_{off}$为$530~\mu J$。这些参数是评估高频下开关损耗的关键依据 。
4.2. 中性点内侧开关选择:B3M010C075Z (750V)
B3M010C075Z是一款额定电压为750V的SiC MOSFET。对于800V母线系统,内侧开关仅需承受400V电压,750V的额定电压提供了充足的安全裕量 。
静态特性: 该器件最突出的特点是其极低的导通电阻。在$25^{\circ}C$时,其典型$R_{DS(on)}$仅为$10~m\Omega$(测试条件:$V_{GS}=18V, I_{D}=80A$),在$175^{\circ}C$时也仅上升至$12.5~m\Omega$。超低的$R_{DS(on)}$及其优异的温度系数,使其成为最小化导通损耗的绝佳选择 。
动态特性: 其总栅极电荷$Q_{G}$典型值为220 nC。在500V母线电压、80A电流的测试条件下,$25^{\circ}C$时的典型开通损耗$E_{on}$为$910~\mu J$,关断损耗$E_{off}$为$625~\mu J$(包含体二极管反向恢复)30。尽管其主要贡献是导通损耗,但良好的开关性能同样有助于降低换流过程中的损耗。
表4.1 B3M013C120Z与B3M010C075Z关键参数对比及应用定位
参数 B3M013C120Z B3M010C075Z 在非对称T型拓扑中的定位 定位优势
最大漏源电压 ($V_{DSmax}$)1200 V750 V外侧开关 (S1, S4)满足阻断全母线电压的要求。
典型 $R_{DS(on)}$ @ $25^{\circ}C$$13.5~m\Omega$$10~m\Omega$内侧开关 (S2, S3)极低的导通电阻,最大程度降低导通损耗。
典型 $R_{DS(on)}$ @ $175^{\circ}C$$23~m\Omega$$12.5~m\Omega$内侧开关 (S2, S3)优异的高温$R_{DS(on)}$性能,确保高温下仍保持低导通损耗。
总栅极电荷 ($Q_{G}$)225 nC220 nC外侧开关 (S1, S4)合理的$Q_{G}$值,结合低开关能量,确保了优良的开关性能。
典型开通/关断损耗$E_{on}=1200~\mu J$ / $E_{off}=530~\mu J$$E_{on}=910~\mu J$ / $E_{off}=625~\mu J$外侧开关 (S1, S4)较低的开关损耗,支持高频工作以提升功率密度。
结壳热阻 ($R_{th(j-c)}$)$0.20~K/W$$0.20~K/W$通用优异的热性能,便于散热设计。注:开关损耗测试条件不同,仅供参考。B3M013C120Z测试条件为$V_{DC}=800V, I_{D}=60A$;B3M010C075Z测试条件为$V_{DC}=500V, I_{D}=80A$。
通过上表对比可以清晰地看出,这两款器件的特性形成了完美的互补。B3M013C120Z的高耐压和低开关损耗特性使其成为承担高频斩波和高电压应力的外侧开关的理想选择。而B3M010C075Z则凭借其在750V电压等级下做到的业界领先的低导通电阻,完美契合了内侧开关对低导通损耗的核心需求。
5. 应用价值综合评估:构建高性能T型三电平逆变器
5.1. 性能预测与损耗分析将B3M013C120Z和B3M010C075Z应用于非对称T型三电平逆变器中,可以预见其在系统效率和功率密度方面的巨大潜力。通过简化的损耗模型估算,在典型的混合逆变器工作条件下(如800V直流母线,10kW输出功率,开关频率65 kHz),该方案相较于传统方案具有明显优势。
与全Si-IGBT方案对比: SiC方案的开关损耗将降低一个数量级以上,使得系统总效率轻松突破99%,同时支持的开关频率可以从IGBT方案的16-20 kHz提升至65 kHz甚至更高。
与对称全1200V SiC方案对比: 尽管外侧开关的开关损耗相似,但内侧开关的导通损耗将显著降低。由于B3M010C075Z的$R_{DS(on)}$($10~m\Omega$)远低于同代1200V级别的SiC MOSFET(如B3M020120ZL的$20~m\Omega$ ),在内侧开关导通时间较长的工况下(尤其是在部分负载条件下,这是混合逆变器常见的运行状态 ),这种导通损耗的降低将带来可观的效率提升。
5.2. 系统级优势与设计建议采用该非对称SiC方案所带来的性能提升,将转化为切实的系统级优势:
功率密度提升: 总损耗的降低意味着散热需求的减小。更低的散热器体积和重量,结合因高开关频率而减小的滤波器尺寸,将共同促成逆变器功率密度的显著提升,使其更紧凑、更轻便 。
无源元件小型化: B3M013C120Z优异的开关性能支持系统工作在更高的开关频率(例如大于60 kHz )。根据电磁学原理,更高的频率允许使用更小感值的电感和更小容值的电容来实现相同的滤波效果,从而大幅减小无源元件的体积、重量和成本 。
   驱动电路设计考量: SiC MOSFET的快速开关特性对其驱动电路提出了严苛要求。为充分发挥其性能并确保可靠运行,必须选用高性能的隔离栅极驱动器。基本半导体的BTD5350x系列驱动器是一个合适的选择 30。其高达10A的峰值输出电流,能够快速对SiC MOSFET的输入电容进行充放电,实现纳秒级的开关边沿;低至60ns的传输延时保证了控制信号的精确传递;高达5000Vrms的隔离电压则确保了高压侧与低压控制侧的安全隔离。特别推荐选用BTD5350M版本,其集成的米勒钳位功能能够在关断期间为栅极提供一个低阻抗通路,有效抑制由高$dv/dt$引起的米勒电流导致的寄生导通风险,这对于提升SiC应用系统的鲁棒性至关重要 。
表5.1 T型三电平逆变器不同配置方案的性能预测基准
配置方案 预估开关损耗 预估导通损耗 总损耗 预计峰值效率 相对功率密度指数
传统Si-IGBT对称方案高中高~$98.5\%$1.0 (基准)
对称全1200V SiC方案低中-低中-低~$99.2\%$~1.5
非对称SiC方案 (1200V/750V)低低最低>99.4%>1.7注:表中数据为基于典型工况的定性与半定量预测,旨在说明不同方案间的相对性能差异。
该性能预测清晰地表明,通过在T型拓扑中非对称地部署B3M013C120Z和B3M010C075Z,能够实现最低的综合损耗,从而达到最高的系统效率和功率密度,充分体现了该方案的技术价值。
6. 结论与展望6.1. 结论总结倾佳电子深入分析了混合逆变器的技术发展趋势,并聚焦于T型三电平拓扑及其优化方案。分析表明,T型三电平拓扑因其较低的导通损耗而具备效率优势,而其外侧开关承受全母线电压的挑战则可由高性能高压SiC MOSFET有效应对。
通过对基本半导体B3M013C120Z (1200V) 和B3M010C075Z (750V) 两款SiC MOSFET的详细特性表征,倾佳电子论证了在T型拓扑中采用非对称器件配置的巨大应用价值。将具备高耐压和低开关损耗的B3M013C120Z用于外侧开关,同时将具备超低导通电阻的B3M010C075Z用于内侧中性点开关,是一种高度精细化的协同设计。该方案充分利用了T型拓扑的内在特性与不同电压等级SiC器件的性能优势,实现了开关损耗和导通损耗的同步最小化。
   深圳市倾佳电子有限公司(简称“倾佳电子”)是聚焦新能源与电力电子变革的核心推动者:
倾佳电子成立于2018年,总部位于深圳福田区,定位于功率半导体与新能源汽车连接器的专业分销商,业务聚焦三大方向:
新能源:覆盖光伏、储能、充电基础设施;
交通电动化:服务新能源汽车三电系统(电控、电池、电机)及高压平台升级;
数字化转型:支持AI算力电源、数据中心等新型电力电子应用。
公司以“推动国产SiC替代进口、加速能源低碳转型”为使命,响应国家“双碳”政策(碳达峰、碳中和),致力于降低电力电子系统能耗。
需求SiC碳化硅MOSFET单管及功率模块,配套驱动板及驱动IC,请搜索倾佳电子杨茜
6.2. 关键优势回顾
综上所述,采用B3M013C120Z和B3M010C075Z构建的非对称T型三电平逆变器方案,其核心优势在于:
极致的系统效率: 在宽泛的负载范围内,尤其是在混合逆变器常见的轻载和中载工况下,均能保持极高的转换效率。
卓越的功率密度: 更高的效率和更高的开关频率共同作用,使得散热系统和无源滤波元件的体积得以大幅缩减,从而实现更紧凑、更轻量化的产品设计。
优化的成本效益: 通过在内侧桥臂使用成本更低的750V SiC器件,实现了在不牺牲甚至提升性能的前提下,对系统BOM成本的有效控制。
  6.3. 未来展望
展望未来,混合逆变器的技术发展将继续沿着高频化、高密度化和高集成化的路径演进。宽禁带半导体将扮演愈发重要的角色,其应用将从分立器件逐步走向更高度集成的功率模块。随着SiC技术的不断成熟和成本的进一步下降,以及GaN器件在高频应用领域的崛起,未来可能会出现更多创新的混合拓扑结构,例如混合SiC/GaN的配置方案,以在不同功率等级和应用场景下寻求最佳的性能与成本平衡点 。基本半导体等器件供应商通过持续推出性能更优的SiC MOSFET产品,将为下一代高效、高密度混合逆变器的发展提供坚实的基础。
|
|