aaa2742 发表于 2019-3-18 20:24

非金属薄膜膜厚测量系统

非金属薄膜膜厚测量系统说明 个人摸索参考国外仪器Filmetrics F50所做，想转让该样机或技术。简介该样机利用白光光谱干涉原理，可准确测量在基底上的透明或半透明薄膜厚度。根据反射率n、消光系数k随着薄膜厚度的变化规律，开发了具有完全自主知识产权的最优化算法，实现了膜厚高精度测量。同时，该系统配备了高精度三维移动平台，可实现薄膜表面膜厚的Map测量。样机实物图：
参数及功能测量精度：0.1nm测量范围：50nm-50um重复性误差：<0.4%单点测量时间：<2s三维移动测量平台，可进行标准的Si上镀SiO2的晶圆2、3、4、6、8、12寸的测量现可测材料Si基底上镀SiO2（其他参数可按需求添加）测量功能以及准确度可媲美Filmetrics公司的F50产品。软件测量：优势非接触无损测量，无污染测量重复性好，操作简单，全自动坐标测量系统内部含有宽波段光源，微型光谱仪检测，适用范围广超高性价比，模块化结构设计，开放的扩展接口，可满足客户个性化定制完全自主知识产权的核心检测算法应用半导体晶圆测量触摸屏其他镀膜行业合作方式可提供样机测试可转让样机或是全部技术，包含软硬件、算法以及全部技术要点

aaa2742 发表于 2019-3-22 19:16

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