关于晶体管固有的“二次击穿"

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 楼主| 12580 发表于 2009-12-15 10:08 | 显示全部楼层 |阅读模式
看到:晶体管固有的“二次击穿”,而MOSFET无二次击穿的问题。 我知道这可能跟它们的内部结构或工艺有关,但感觉不是很清楚,请哪位帮忙讲解一下。
HWM 发表于 2009-12-15 12:07 | 显示全部楼层
“二次击穿”的原因是PN结制造缺席所致,其在高压下一次击穿后由于材料不均匀性再次局部发生“二次击穿”导致器件PN结损毁。FET管的结构和BGT管不同,其“通道”中没有PN结,故不会发生“二次击穿”。
maychang 发表于 2009-12-15 12:17 | 显示全部楼层
二次击穿问题与PN结的结构和掺杂有关,相当复杂。
实用上各厂家都在datasheet中给出了安全工作区,使用双极型功率管时需要注意管子工作状态必须在安全区内。
 楼主| 12580 发表于 2009-12-15 12:53 | 显示全部楼层
嗯。谢谢楼上两位大师了。
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