1. 阈值电压一句话概括:
阈值电压是使MOS晶体管从“关断”状态切换到“开启”状态所需的最低栅极电压。 详细解释:
对于一个NMOS晶体管,它有一个源极、一个漏极和一个栅极。栅极和衬底之间由一层薄氧化层隔离,像一个电容器。 影响阈值电压的因素:
Vth 并不是一个固定不变的物理常数,它由制造工艺和物理结构决定,主要受以下因素影响: 栅氧化层厚度:氧化层越薄,控制能力越强,Vth 越低。 衬底掺杂浓度:衬底掺杂越高,形成反型层越难,Vth 越高。 栅极材料:栅极材料与硅的功函数差会影响 Vth。 氧化层中的电荷:制造过程中在氧化层内产生的固定电荷会影响 Vth。 源极-衬底电压:当源极和衬底之间加有反向偏压时,会抬高 Vth,这被称为 体效应 或 背栅效应。
总结: 阈值电压 Vth 是MOS管开启的“门槛”,是区分其工作在截止区和放大区的关键参数。
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