[模拟产品/SiC] mSiC技术相比传统SiC MOSFET在材料和制造工艺上有何独特之处?

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mikewalpole 发表于 2026-9-11 14:57 | 显示全部楼层
传统SiC MOSFET的结终端扩展工艺复杂,占用大量芯片面积;mSiC技术采用一体化的终端成型工艺,终端区域面积占比减少25%,进一步提升单位晶圆的芯片产出数量。
tabmone 发表于 2026-9-11 19:59 | 显示全部楼层
传统SiC MOSFET普遍采用4H-SiC单晶衬底,位错密度高,晶圆尺寸提升过程中良率控制难度大;mSiC技术大多采用改性的复合SiC材料体系,通过特殊的材料重构工艺降低晶体缺陷密度,衬底位错密度比传统4H-SiC单晶衬底低一个数量级以上。
backlugin 发表于 2026-9-11 20:47 | 显示全部楼层
mSiC技术的核心材料优势是什么?
uytyu 发表于 2026-9-12 11:11 | 显示全部楼层
Microchip强调其拥有多个外延片来源和两座SiC晶圆厂,这有助于保障长期稳定的供应链。
OliviaSH 发表于 2026-9-12 13:33 | 显示全部楼层
mSiC沟槽处理技术独到,沟道迁移率高,稳定性好。模块集成能力强,适合系统级应用。
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