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[电子元器件]

酱油启示录——50

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楼主
一直在讲《电路》,回过头来说点“器件模型”。之前给出了个BJT的经典模型

https://bbs.21ic.com/icview-562887-1-1.html

在此,再给个MOSFET(增强型)的经典模型:

一)模型关系式的数学推导

增强型MOSFET的源极连接衬底。给出几个式子(忽略“边缘效应”和“调制效应”):

  Cox = εox / tox

其中,Cox为单位面积电容,tox为绝缘层厚度,εox为绝缘层介电常数

  v(x) = -μn E(x) = -μn ∂U(x)/∂x

其中,v(x)为沟道中电子的迁移速度,E(x)为沟道方向上的电场分量,电子μn为迁移率,U(x)为沟道电势。

  dQ = (Cox W dx)U(x)

其中,W为沟道宽度。

  Id = dQ/dt = Cox W U(x) dx/dt = Cox W U(x) v(x) = -μn Cox W U(x) ∂U(x)/∂x

对上式沿沟道方向(即x向,其中L为沟道长度)积分

  ∫[0,L]Id dx = -μn Cox W ∫[U(0),U(L)] U dU



  Id L = (1/2)μn Cox W(U(0)²-U(L)²) = (1/2)μn Cox W((Ugs - Ut)²-(Ugd - Ut)²)

整理得

  Id = (1/2)μn Cox(W/L)(2(Ugs-Ut)Uds - Uds²)

需注意的是条件——Ugd>Ut且Ugs>Ut(Ugd=Ug-Ud),这就是所谓的MOSFET变阻区。

若Ugd≤Ut且Ugs>Ut,则令上式中的Ugd - Ut项为零,得

  Id = (1/2)μn Cox(W/L)(Ugs - Ut)²

这就是所谓的MOSFET饱和区。注意变阻和饱和区的分界线

  Id = (1/2)μn Cox(W/L)Uds²

此外,若Ugs<Ut,则Id = 0(管子截止)。

二)共源放大器的传函

1)当 Ugs < Ut

  Ud = Udd

2)当 Ut < Ugs < (√(1 + 4 Rd K Udd) - 1)/(2 Rd K) + Ut

  Ud = Udd - Rd K(Ugs - Ut)²

3)当 Ugs > (√(1 + 4 Rd K Udd) - 1)/(2 Rd K) + Ut

  Ud = (2 Rd K(Ugs - Ut) + 1 -√((2 Rd R(Ugs - Ut) + 1)² - 4 Rd K Udd))/(2 Rd K)
     = 2 Udd/(2 Rd K(Ugs - Ut) + 1 +√((2 Rd R(Ugs - Ut) + 1)² - 4 Rd K Udd))

其中,Udd为电源,Rd为漏极电阻,K = (1/2)μn Cox(W/L)

需注意的是,当Ugs由零变大,Ud由Udd变至零。

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沙发
Siderlee| | 2013-8-20 13:17 | 只看该作者
从来没有做过这么仔细的。

学习

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板凳
路过打酱油。。|  楼主 | 2013-8-20 13:21 | 只看该作者
如果感兴趣,可以自己作个图看看。特别是那个共源放大器。再利用图解(负载线)方法对比一下。

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地板
xukun977| | 2013-8-20 13:31 | 只看该作者
Siderlee 发表于 2013-8-20 13:17
从来没有做过这么仔细的。

学习


哪本半导体物理书上都有。
你跑《模拟电路基础》书上看,那里自然不会详细推导了,甚至是看不见推导了。

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5
xukun977| | 2013-8-20 13:41 | 只看该作者

许多英文书中都给出推导了:






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6
路过打酱油。。|  楼主 | 2013-8-20 13:45 | 只看该作者
首帖的补充说明:

器件模型是学习《模拟电路》的基础,其地位与电路原理不相上下。与电路原理不同的是,器件模型可有不同的选择(自然其效果是不同的)。从简单模型到复杂模型,其精确程度随之提高,这非常自然。由于简单模型不仅简单,一般还能更突出其基本原理,所以通常分析模拟电路时比较倾向于选择经典的简单模型。当然,如果采用软件仿真,则选择性就比较大了,视需求可选择复杂但精度高的模型。

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7
Siderlee| | 2013-8-20 13:49 | 只看该作者
xukun977 发表于 2013-8-20 13:31
哪本半导体物理书上都有。
你跑《模拟电路基础》书上看,那里自然不会详细推导了,甚至是看不见推导了。 ...

你从哪里看出来我是跑到  模拟电路基础  上看的

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8
xukun977| | 2013-8-20 14:10 | 只看该作者

给楼主提供50个研究话题,用其渊博的数学+电磁学知识,可以轻松解决的:

第一个:如下图,书中说强反型后,随着VDS升高,会出现夹断区,其长度标为l,那么l的表达式为?



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9
xukun977| | 2013-8-20 14:21 | 只看该作者

第二个:当沟道较短,且电场较大时,源极过来的电子,会产生热载流子,撞击产生电子空穴对,电子被吸向漏端n+,形成电流IDS,而空穴被斥向衬底,从而形成电流IDB,如何近似表述IDB?
同时有少量电子获得的能量足够高,它可以穿过氧化层到达栅,形成栅极电流IG,如何近似表述IG?



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10
ee_madao| | 2013-8-20 14:47 | 只看该作者
MOS啊,大陆学校一般不讲MOS,基本上都是微电子专业的才讲
请问复旦最近搞的半浮栅和 施敏的有何区别?貌似复旦这回成果影响很大啊?

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11
Lgz2006| | 2013-8-21 08:27 | 只看该作者
楼主这个就是个人学习笔记中之类,说白了就是引引书上要点重点,显然也不是这方面研究专家,何必认真

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12
路过打酱油。。|  楼主 | 2013-8-21 08:50 | 只看该作者
Lgz2006 发表于 2013-8-21 08:27
楼主这个就是个人学习笔记中之类,说白了就是引引书上要点重点,显然也不是这方面研究专家,何必认真 ...

闻到一股醋味....

不过,在此仅打酱油。

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13
bbsdianzi168| | 2013-8-21 12:55 | 只看该作者
路过。看不懂。

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14
xukun977| | 2013-8-21 13:52 | 只看该作者
ee_madao 发表于 2013-8-20 14:47
MOS啊,大陆学校一般不讲MOS,基本上都是微电子专业的才讲
请问复旦最近搞的半浮栅和 施敏的有何区别?貌似 ...


也就热几天就熄火了,不信走走看。
整个微电子产业链,我们是一个环节都把控不了,什么仪器都是进口的。在此背景下,要想转化为实用,得若干年,甚至几十年,而人家发达国家却可以直接拿过来用。所以等你具备实用条件时,已成昔日黄花了。
所以,我们很多科技成果,都是为人做嫁衣裳,发达国家最受益。。。这样的例子很多很多了。。。

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