本帖最后由 rookie21 于 2020-6-11 21:37 编辑
补充一点PN结概念。
第一: 还是以npn为例, 上面第一个图里np0表示B区(p区)在热平衡时的少子也就是电子浓度。我们知道没有加偏压时np0就是个比较低的值。
然后考虑BE结加上电压,根据半导体大佬肖克来推导证明的边界条件,B区靠近E的边界处,浓度会改变,这个值由边界的偏压决定,可以看到VBE是个正值的话,浓度会升高。
同理如果是靠近C的边界偏压VBC是个反偏的较大的负直,肖克来的边界条件告诉我们此时浓度是个很低接近0的浓度。
第二:我们知道电子扩散注入B区后,会因为有浓度梯度继续扩散,并且边扩散会边复合。浓度会按指数规律在空间上分布,图中X方向是E指向C.
其中Ln是有由材料扩散系数 和少子生命期决定的。会按图示指数规律衰减(和前面边界条件的指数项不要混淆)。
要保证复合很少B区宽度W应该远远小于Ln,这就常说的基区很窄,到底要取多窄的依据。
而且e^(-x/Ln)项在x=w<<Ln时可以近似为直线(如由泰勒展开一次项近似)。这也就是书上吧浓度分布近似成一条直线的原因。
而直线的梯度是固定值斜率,现在求出X=W处的梯度,代到图中IC的表达式就得到了书上的表达式。
大概如此吧,可以查查书上前面章节 PN结的内容部分有没有讲这些。IS=AE*q*Dn*np0/W
|