醉心369 发表于 2013-3-15 16:19 
是做什么用的
离子束光刻采用液态原子或所态原子电离后形成的离子通过电磁场加速及电磁透镜的聚焦或准直后对光刻胶进行曝光。其原理与电子束光刻类似,但德布罗意波长更短(小于0.0001纳米),且有无邻近效应小、曝光场大等优点。离子束光刻主要包括聚焦离子束光刻(FIBL)、离子投影光刻(IPL)等。其中FIBL发展最早,最近实验研究中已获得10纳米的分辨率。该技术由于效率低,很难在生产中作为曝光工具得到应用,目前主要用作VLSI中的掩模修补工具和特殊器件的修整。
不知道是不是你说的那个FIBL
|