内电层分割后为什么改动别的地方就错

发表于 2012-8-30 14:06

altium designer 内电层是GND，有一些孤立的覆铜因为面积太小，所以DRC报错，为此我P+L分割内电层，并给这些孤立的铜一个not net,这样DRC就正确了，可是当我随便改动一个地方或者重新开软件，就又报错了，为什么呢

发表于 2012-8-30 14:17

你把online DRC关了就可以了

发表于 2012-8-30 14:49

过孔避的太大，内层的铜皮太碎。
可以改下你的封装。

发表于 2012-8-30 16:05

3# Forward001
封装不能改了。是对的。所以我才想要把这些碎的铜分割，想删除却删除不了。该怎么办呢

发表于 2012-8-30 16:05

2# forgot 】
关了也是一样报错。不是这个问题

发表于 2012-8-30 16:24

我等等答案

发表于 2012-8-31 08:45

继续求助

发表于 2012-8-31 11:10

不要设置负片，直接铺铜你试过吗？

发表于 2012-8-31 11:17

先分开，测试试试

发表于 2012-8-31 13:12

我都没有用过负片内电层分割，只能看那看了。
觉得还是直接覆铜方便。

发表于 2012-8-31 13:51

为什么很多使用AD或者protel的人在出现错误的时候不知道鼠标在绿色上右击查看错误冲突的原因呢？？？？？？？？？:dizzy: 7# joydone

发表于 2012-8-31 14:56

11# forgot
右击就是报这些独立覆铜面积太小，但是无法解决问题

发表于 2012-8-31 14:56

8# jjjyufan
试过，那个没问题，但是负片分割就出现问题了

发表于 2012-8-31 15:04

怎么说呢，我不喜欢用负片看着不习惯，也容易出错
别纠结了，换正片图画完项目结束，再慢慢研究
有结果记得来说下啊。

发表于 2012-8-31 16:53

14# jjjyufan
好吧，不过想问问，既然有正片用，为什么还要有负片的存在

发表于 2012-8-31 18:07

15# joydone 只知道用负片的话文件会小很多！机子不好的话，正片铺铜卡机比较厉害！

发表于 2012-9-3 08:13

16# DAVIDYE 、
谢谢